Быстрая вспышка инфракрасного света открывает путь для 3D-обработки внутри полупроводниковых чипов
Исследователи из лаборатории LP3 во Франции разработали световой метод для локальной обработки материалов в любом месте трехмерного пространства полупроводниковых чипов. Прямое ...